Samsung introducerar hög NA EUV för att öka konkurrenskraften på 2nm -marknaden

Samsung Electronics har enligt uppgift introducerat nästa generations halvledar litografiutrustning, hög numerisk bländare (NA) extremt ultraviolett (EUV) litografimaskin (hög NA EUV) —EXE: 5000-vid dess Hwaseong-anläggning i Sydkorea i början av mars.Hög NA EUV är avgörande för att tillverka ultralefinkretsar under 2nm, vilket signalerar Samsungs ansträngning för att förbättra sin SUB-2NM-processteknik.

Rapporten belyser att denna avancerade utrustning kommer med en rejäl prislapp på 500 miljarder KRW (cirka 2,501 miljarder RMB) och levereras uteslutande av ASML, vilket gör den till ett av de mest eftertraktade verktygen i halvledarindustrin.

Sedan förra året har Samsung utvärderat tillämpningen av hög NA EUV i sin tillverkningsprocess och enligt uppgift planerar att använda den för sina nästa generations halvledarnoder under 2nm.

Hög NA EUV anses vara en kritisk möjliggörare för avancerade sub-2nm gjuteriprocesser.Ledande halvledarföretag över hela världen tävlar för att anta denna banbrytande teknik.Intel har redan tecknat ett kontrakt för att köpa sex av dessa maskiner, med den första som levererades 2023. Samtidigt har TSMC nyligen infört utrustningen i sin produktionslinje för att påskynda antagandet av sin 2NM -processteknik.

Enligt Trendforce nådde TSMC: s Global Foundry -marknadsandel under fjärde kvartalet 2023 67,1%, en ökning med 2,4 procentenheter från Q3 2023. Däremot har Samsung kämpat på marknaden, med sin andel sjunkande från 9,1% till 8,1% under samma period.